贵州规划攻关现从事半导体界面原子结构及物性关系的透射电子显微学研究。
源科微观机理研究将在国际上具有领先地位。技创技术为日本国立材料研究所的14项国际公认领先研究之一。
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源科用透射电子显微镜进行力作用下的原位观察并证实了MXene材料中大的层间距变化。
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